タツオカでは、実験・研究にかかせない半導体製造用ガスの供給元を多数確保しております。価格・納期・品質、そして高いレスポンスをお約束しておりますので、ぜひ、お問い合わせください。
少量の場合、超小型ボンベをご利用ください。
シリコン（Si）系 | SiH4 Si2H6 SiH2Cl2 SiF4 CH3SiH3 (CH3)3SiH3 |
ヒ素（As）系 | AsH3 |
リン（P）系 | PH3 PF3 |
ホウ素（B）系 | B2H6 BF3 11BF3 BCl3 |
ゲルマニウム（Ge）系 | GeH4 GeF4 |
セレン（Se）系 | H2Se |
タングステン（W）系 | WF6 |
フッ素（F）系 | CF4 CHF3 CH2F2 C2F6 C3F8 SF6 NF3 |
酸窒素（O・N）系 | NO N2O NH3 |
混合ガス | SiH4/N2,H2,Ar,He PH3/N2,H2,Ar,He BCl3/N2,Ar,He O2/CF4 他 |
その他の半導体製造用ガス | MO・GaN・SiCCVD用（アルシン・ホスフィン・プロパン他） キャリアバランスガス（H2・O2N2・He・Ar） |